研究人员在展示光子集成芯片(新华社记者 金立旺 摄)

日媒称，中国积极改善解决知识产权纠纷的制度。自2019年1月起，专利侵权二审案件权限集中到最高人民法院。现在专利侵权二审案件分由各高级人民法院审理，存在裁判尺度不够统一的问题。中国建立以专业知识为基础根据统一标准进行判断的体制，旨在向国际社会展现保护知识产权的姿态。

据《日本经济新闻》11月30日报道，中国与美国进行贸易战，美国要求中国削减对美贸易顺差并加强知识产权保护。中美两国领导人将于12月1日在阿根廷举行元首会谈，中方可能介绍在保护知识产权方面做出的新努力。

报道称，在中国，随着专利申请数的增加，知识产权纠纷也增加。2017年，中国知识产权纠纷达23.7万件，是日本的25倍。充实解决手段成为课题。

从现状而言，原则上一审由各地中级人民法院和北京等三地的知识产权法院受理，二审由各地高级人民法院负责。

自明年1月起，在知识产权纠纷方面，有关专利、技术秘密、软件和集成电路布图设计等尤其需要高水平专业知识作出判断的领域，二审案件权限集中到最高人民法院。

报道称，在中国，各省保护主义色彩强烈，法院倾向于作出更利于地方企业的裁决。二审权限集中至最高人民法院有利于纠正这一问题。熟悉中国知识产权状况的律师黑田健二指出，现在各地仍有法院以不合理的理由作出有利于地方企业的裁决的案例。有专家对二审权限集中到最高人民法院进行了肯定，认为这有利于防止地区保护主义和内外有别，给外企带来很大好处。（参考消息）